光刻胶单体

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对氯苯乙烯（PCST）：PCST是用作KrF光刻树脂原料之一，它可以用来聚合成聚合物，如聚苯乙烯等，这些聚合物被广泛应用于光刻树脂等方面

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对羟基苯乙烯（pHS）：pHS是用作KrF光刻树脂原料之一，可以通过聚合反应与其他单体共聚，产生优异的聚合物。常用于半导体等领域。

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丙烯酸叔丁酯(pTBA)：能够满足树脂定制化需求。

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对叔丁氧基苯乙烯(pTBS)：为对羟基苯乙烯的衍生物之一，是KrF光刻树脂应用最广泛的单体之一，可以满足树脂定制化需求。

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