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原材料国产自主供应：光刻胶本土替代关键环节
光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成有效图形窗口或者功能图形的工艺技术，是光电信息产业链中的核心环节之一。在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸。 光刻胶是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量。光刻胶是微电子领域微细图形加工核心上游材料，也是精细化工技术壁垒最高的材料。光刻胶所在的产业链覆盖范围非常广泛，从上游基础化工材料行业、精细化学品行业到中游光刻胶制备，到下游PCB、面板、半导体产业，再到电子等应用终端。 当前，全球光刻胶供给高度集中，海外龙头已实现高端制程量产，而我国光刻胶起步较晚，目前以中低端产品为主，高端领域正在逐步突破过程中，国产替代正在持续进行。 我国半导体光刻胶的上游核心原材料仍被国外厂商垄断，国产化率很低，增加了国内光刻胶生产成本以及供应链风险，因此原材料国产自主供应是光刻胶本土替代的关键环节。
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2022
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微芯新材获数千万元投资
每经AI快讯，据毅达资本公众号，近日，毅达资本完成对宁波微芯新材料科技有限公司数千万元的投资。微芯新材成立于2018年，是一家KrF及以上光刻胶用单体和树脂的研发生产企业。公司拥有电子级单体和高端半导体树脂的批量化供应能力，现已获得日韩客户认可。
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2021
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光刻胶：半导体国产化关键材料，核心企业梳理
光刻工艺是集成电路制造中关键的工序，是其他步骤能正常进行的先决条件。光刻工艺占整个晶圆制造成本的35%，耗费时间占据整个制造过程的40%~60%。 光刻胶是图形复刻加工技术中的关键性材料。光刻胶也被称为“光致抗蚀剂”，是一种用于光刻的载体介质，它可以利用光化学反应将光信息在光刻系统中经过衍射和过滤后转化为化学能，从而将微细图形从掩模版转移到待处理的基板
国产替代高歌猛进！光刻胶，能否迎来高光时刻？
近一段时间，资本市场上有这么一个板块已经涨了快一个多月了。对，笔者说的就是光刻胶板块，指数一个月上涨了近20%，不少玩家都是用一波波涨停温暖投资者。 光刻胶板块涨幅 光刻作为半导体加工中重要的工艺，占芯片制造时间的40-50%，占其总成本的30%，可以说直接决定了芯片的特征尺寸。而光刻胶则是光刻的关键耗材，在全球晶圆制造材料市场中占比约为6%，可见其重要性。
光刻胶的作用
光刻胶是一大类具有光敏化学作用（或对电子能量敏感）的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说法，因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体。
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光刻胶的性能指标包括哪些 光刻胶的主要技术参数
光刻胶的性能指标及技术参数 光刻胶的性能指标包含分辨率、对比度、灵敏度、黏滞性/黏度、黏附性、抗蚀性、表面张力、针孔、纯度、热流程等。
