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二甲苯（DMB）：无色透明液体，二甲苯或二甲苯芳族烃混合物。在半导体领域中常作清洗去油剂及某些光刻胶溶剂。

三乙酸甘油酯（GTA）：无色油状液体，三乙酸甘油酯是广泛使用的溶剂之一，在半导体行业中用于抗蚀材料的添加剂。

对氯苯乙烯（PCST）：PCST是用作KrF光刻树脂原料之一，它可以用来聚合成聚合物，如聚苯乙烯等，这些聚合物被广泛应用于光刻树脂等方面

对羟基苯乙烯（pHS）：pHS是用作KrF光刻树脂原料之一，可以通过聚合反应与其他单体共聚，产生优异的聚合物。常用于半导体等领域。

无色透明液体，异丙醇是广泛使用的溶剂之一，在半导体行业中用于清洗管线。

L-EL和EL（乳酸乙酯）：无色液体，在电子行业中用于旋涂后的去边和清洗，也用于安装光刻材料之前管线的冲洗。

环己酮（CYC）：无色透明液体，环己酮是重要化工原料，在半导体行业中应用于清洗剂和清洗管线。

乙酸丁酯（nBA）：无色透明液体，乙酸丁酯是一种优良的有机溶剂，常用作负性光刻胶显影后的清洗剂。

甲基丙烯酸甲酯（MMA）：无色透明液体，主要用作制造光刻胶，为了使得光刻胶材料有较高的分子密度以达到好的曝光结果。

环己烷（CYH）：无色透明液体，环己烷用作光刻胶溶剂和清洗去油剂，MOS级主要用于分立器件，中、大规模集成电路，BV-Ⅲ级主要用于超大规模集成电路，在电子行业中具有重要作用。

乙酸乙酯（EtAc）：无色透明液体，乙酸乙酯作为一种有机溶剂，可以用于清洗和去除半导体表面的污染物，还可以用于半导体的脱脂和去胶。

甲醇（MeOH）：无色透明液体，广泛应用于半导体清洗、去除引线保护膜、精密打印等领域，具有优异的去污性能和清洁度，可以大大提高半导体产品的制造精度和质量。

无色透明油状液体，NMP用于半导体、集成电路、液晶显示器等电子器件的重要溶剂之一。它可以溶解电子活性材料，如金属、氧化物和聚合物，用于电镀、蚀刻和清洗等工艺。

丙二醇单甲醚(PGME)：无色液体有机溶剂，主要用于半导体制造过程中的光刻工艺。在半导体和电路板生产过程中，PGME可以用作溶剂和清洗剂，用于去除表面污染物和清洗电子元件。

丙二醇单甲醚乙酸酯（PGMEA）：无色、透明、易挥发的液体有机溶剂，主要用于半导体制造过程中的光刻工艺。在光刻工艺中，PGMEA被用作显影剂的稀释剂和清洗剂，用于清洗半导体器件表面的残留物和污垢。

丙烯酸叔丁酯(pTBA)：能够满足树脂定制化需求。

对叔丁氧基苯乙烯(pTBS)：为对羟基苯乙烯的衍生物之一，是KrF光刻树脂应用最广泛的单体之一，可以满足树脂定制化需求。

对乙氧基乙氧基苯乙烯(PEES)：可适用于特殊规格的光刻胶树脂。

对乙酰氧基苯乙烯（pACS）：pACS是公司生产的第一个用作KrF光刻树脂原料的对羟基苯乙烯衍生物，经过多年的技术开发，生产成本大幅度下降，并且生产工艺环境友好。

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