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产品

二甲苯(DMB)

二甲苯(DMB):无色透明液体,二甲苯或二甲苯芳族烃混合物。在半导体领域中常作清洗去油剂及某些光刻胶溶剂。

三乙酸甘油酯(GTA)

三乙酸甘油酯(GTA):无色油状液体,三乙酸甘油酯是广泛使用的溶剂之一,在半导体行业中用于抗蚀材料的添加剂。

对氯苯乙烯(pCST)

对氯苯乙烯(PCST):PCST是用作KrF光刻树脂原料之一,它可以用来聚合成聚合物,如聚苯乙烯等,这些聚合物被广泛应用于光刻树脂等方面

对羟基苯乙烯(pHS)

对羟基苯乙烯(pHS):pHS是用作KrF光刻树脂原料之一,可以通过聚合反应与其他单体共聚,产生优异的聚合物。常用于半导体等领域。

异丙醇(IPA)

无色透明液体,异丙醇是广泛使用的溶剂之一,在半导体行业中用于清洗管线。

左旋乳酸乙酯(L-EL) 消旋乳酸乙酯(EL)

L-EL和EL(乳酸乙酯):无色液体,在电子行业中用于旋涂后的去边和清洗,也用于安装光刻材料之前管线的冲洗。

环己酮(CYC)

环己酮(CYC):无色透明液体,环己酮是重要化工原料,在半导体行业中应用于清洗剂和清洗管线。

乙酸正丁酯(nBA)

乙酸丁酯(nBA):无色透明液体,乙酸丁酯是一种优良的有机溶剂,常用作负性光刻胶显影后的清洗剂。

甲基丙烯酸甲酯(MMA)

甲基丙烯酸甲酯(MMA):无色透明液体,主要用作制造光刻胶,为了使得光刻胶材料有较高的分子密度以达到好的曝光结果。

环己烷(CYH)

环己烷(CYH):无色透明液体,环己烷用作光刻胶溶剂和清洗去油剂,MOS级主要用于分立器件,中、大规模集成电路,BV-Ⅲ级主要用于超大规模集成电路,在电子行业中具有重要作用。

乙酸乙酯(EtAc)

乙酸乙酯(EtAc):无色透明液体,乙酸乙酯作为一种有机溶剂,可以用于清洗和去除半导体表面的污染物,还可以用于半导体的脱脂和去胶。

甲醇(MeOH)

甲醇(MeOH):无色透明液体,广泛应用于半导体清洗、去除引线保护膜、精密打印等领域,具有优异的去污性能和清洁度,可以大大提高半导体产品的制造精度和质量。

N-甲基吡咯烷酮(NMP)

无色透明油状液体,NMP用于半导体、集成电路、液晶显示器等电子器件的重要溶剂之一。它可以溶解电子活性材料,如金属、氧化物和聚合物,用于电镀、蚀刻和清洗等工艺。

丙二醇单甲醚(PGME)

丙二醇单甲醚(PGME):无色液体有机溶剂,主要用于半导体制造过程中的光刻工艺。在半导体和电路板生产过程中,PGME可以用作溶剂和清洗剂,用于去除表面污染物和清洗电子元件。

丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)

丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA):无色、透明、易挥发的液体有机溶剂,主要用于半导体制造过程中的光刻工艺。在光刻工艺中,PGMEA被用作显影剂的稀释剂和清洗剂,用于清洗半导体器件表面的残留物和污垢。

丙烯酸叔丁酯(TBA)

丙烯酸叔丁酯(pTBA):能够满足树脂定制化需求。

对叔丁氧基苯乙烯(pTBS)

对叔丁氧基苯乙烯(pTBS):为对羟基苯乙烯的衍生物之一,是KrF光刻树脂应用最广泛的单体之一,可以满足树脂定制化需求。

对乙氧基乙氧基苯乙烯(pEES)

对乙氧基乙氧基苯乙烯(PEES):可适用于特殊规格的光刻胶树脂。

对乙酰氧基苯乙烯(pACS)

对乙酰氧基苯乙烯(pACS):pACS是公司生产的第一个用作KrF光刻树脂原料的对羟基苯乙烯衍生物,经过多年的技术开发,生产成本大幅度下降,并且生产工艺环境友好。
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