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光刻胶的优缺点 光刻胶的危害及防护
1、精度高。光刻胶可以在芯片表面形成微米级别的图案,具有非常高的精度和稳定性。 2、适用范围广。光刻胶可以适用于不同类型的芯片材料,包括硅片、玻璃、陶瓷等。 3、加工速度快。光刻胶可以在短时间内完成芯片表面的加工和处理,提高了生产效率。 但光刻胶也存在一些缺点,主要包括以下几点:
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光刻胶和芯片的关系 光刻胶在芯片制造中的作用
本集团认为,在经济全球化的信息时代,信息化将成为中小企业提升自身竞争力的必由之路,而电子商务将成为企业实现信息化的关键路径。因此,本集团将持续专注于推动中国中小企业的电子商务与信息化进程,不断创新,不断推出更多更好的服务,打造智能型的中国企业,成就智慧企业家!
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2022
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原材料国产自主供应:光刻胶本土替代关键环节
光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将图形传递到介质层上,形成有效图形窗口或者功能图形的工艺技术,是光电信息产业链中的核心环节之一。在大规模集成电路的制造过程中,光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工最重要的工艺,决定着芯片的最小特征尺寸。 光刻胶是光刻工艺中最核心的耗材,其性能决定着光刻质量。光刻胶是微电子领域微细图形加工核心上游材料,也是精细化工技术壁垒最高的材料。光刻胶所在的产业链覆盖范围非常广泛,从上游基础化工材料行业、精细化学品行业到中游光刻胶制备,到下游PCB、面板、半导体产业,再到电子等应用终端。 当前,全球光刻胶供给高度集中,海外龙头已实现高端制程量产,而我国光刻胶起步较晚,目前以中低端产品为主,高端领域正在逐步突破过程中,国产替代正在持续进行。 我国半导体光刻胶的上游核心原材料仍被国外厂商垄断,国产化率很低,增加了国内光刻胶生产成本以及供应链风险,因此原材料国产自主供应是光刻胶本土替代的关键环节。
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